Çin'in "çakma" EUV makinesi tek bir çip bile üretemedi!

Küresel yarı iletken sektöründe büyük yankı uyandıran ve Çin'in, Hollandalı ASML'nin kritik Extreme Ultraviolet (EUV) litografi makinesini gizlice kopyaladığına dair çıkan raporların gerçeği yansıtmadığı ortaya çıktı. Çin’in geliştirdiği iddia edilen prototipin tek bir çip bile üretemediği açıklandı.

Kaydet

Hollandalı çip üreticisi ASML, hala dünyada Extreme Ultraviolet (EUV) litografi makineleri üreten tek şirket konumunda bulunuyor. Son zamanlarda ortaya atılan Çin'in, EUV litografi makinesini kopyaladığına dair haberlerin asılsız olduğu belirtildi.

Techspot’un haberine göre, farklı kanallardan toplanan uyumsuz parçalarla bir araya getirildiği belirtilen Çin makinesinin, entegre yazılım ve tedarik zinciri desteği olmadan işlevsel bir sistem kurulamadığı için bugüne kadar tek bir çip dahi üretemediği belirtildi. Uzmanlar, bu durumun, EUV teknolojisinin ASML ve küresel tedarikçiler ağının tekelinde kalmaya devam ettiğini gösterdiğini vurguladı.

Çinin çakma EUV makinesi tek bir çip bile üretemedi!

Tom's Hardware’dan aktarılan bilgilere göre, Çin'in "Frankenstein" lakaplı EUV tarayıcısı, ikinci el ekipman satışları ve çevrim içi yedek parça pazarları da dahil olmak üzere çeşitli kaynaklardan temin edilmiş, birbiriyle uyumsuz parçalar kullanılarak bir araya getirildi. Bu prototipin, bugüne kadar tek bir çip bile üretmeyi başaramadığı ifade edildi.

EUV LİTOGRAFİNİN AŞILMAZ KARMAŞIKLIĞI

Diğer taraftan, Çin’in bu başarısızlığın temelinde, EUV litografi teknolojisinin olağanüstü karmaşıklığı yatıyor. ASML'nin Twinscan NXE platformu, tek bir teknik çizimin kopyalanmasıyla elde edilebilecek bir makine değil. Aksine, ABD, Avrupa ve Japonya merkezli binlerce tedarikçinin onlarca yıllık ortak Ar-Ge çalışmasının ürünü olan, dünyanın en karmaşık üretim ekosistemlerinden birini temsil ediyor.

Tom’s Hardware’in bildirdiğine göre her bir bileşen, farklı bir şirketin patentli parçalarından oluşuyor:

Işık Kaynağı: ASML’nin 2012’de bünyesine kattığı ABD merkezli Cymer’in ürettiği EUV ışık kaynağı, yüksek hacimli üretim için hayati önem taşıyor.
Optikler: Tüm EUV sistemlerinin bağımlı olduğu, aşırı morötesi ışığı neredeyse kayıpsız yansıtması gereken Carl Zeiss'in molibden-silikon çok katmanlı aynaları, ancak bu Alman şirket tarafından üretilebiliyor. Zeiss, bu aynaları üretebilen dünyadaki tek şirket konumunda.
Yazılım Entegrasyonu: Donanımın fiziksel olarak kopyalanması teorik olarak mümkün olsa bile, yüksek hacimli üretimi nanometre hassasiyetinde sürdürebilmek için gerekli olan özel ve entegre yazılımlar olmadan sistemin çalışması imkansız kabul ediliyor. Bu yazılım-donanım entegrasyonu seviyesine ASML dışında hiçbir oluşum ulaşamadı.

ASML'nin mühendislik başarısı, bu binlerce tescilli alt sistemi senkronize ederek yüksek hızda nanometre ölçeğinde hassasiyet sağlayan bir makineyi koordine etmekte yatıyor. Bu bilgi birikiminin önemli bir kısmı, ASML’nin ortakları ve imec gibi araştırma kurumları ağına yayılmış durumda. İhracat kısıtlamaları nedeniyle bu ağ artık Çinli müşterilerle işbirliği yapmadığı için, ikinci el ekipmanlarla bile bu ekosistemi yeniden inşa etmek neredeyse imkansız.

ÇİN’İN ÇÖZÜM ARAYIŞI

Diğer taraftan, tüm bu kısıtlamalara rağmen, Çinli çip üreticileri tamamen eli kolu bağlı değil. SMIC gibi firmaların, ASML’nin daha eski nesil DUV (Derin Ultraviyole) tarayıcılarını, yenilenmiş modüller ve ikinci el performans verileriyle güncellediği belirtildi. Bu kısmi çözümler DUV makinelerinin ömrünü uzatıp ileri üretim süreçlerinde verimliliği sınırlı olarak artırsa da, modern bir EUV platformunun sunduğu kapasite ve hassasiyetin yanına dahi yaklaşamıyor.

Sonuç olarak, Çin’in Cymer EUV kaynağının transit sırasında ele geçirilip tersine mühendislikle incelendiği söylentileri olsa bile, tek tek bileşenlerin elde edilmesi, sistemi çalışır hale getirmeye yetmiyor. Sonuç olarak, EUV teknolojisi, Batı'nın sıkı ihracat kısıtlamaları ve ASML'nin küresel ekosisteminin tekelinde kalmaya devam ediyor.

ÖNERİLEN HABERLER